Filtration

Entegris bietet Filterlösungen basierend auf einer Vielzahl von Medientechnologien und Leistungskriterien an sowie Analysen zur Feststellung von Verunreinigungen in Technologieumfeldern und zur Analyse/Validierung von Materialien.

Gasfiltration

Filtertechnologien aus Nickel, Edelstahl und Teflon® für ultrareine Gasfiltration ermöglichen eine Filtration von Kleinstpartikeln von 0,003 µm für hochreine Gasanwendungen. Wafergard® Gasfilter ermöglichen Prozesse mit einem höheren Gasdurchsatz bei gleichzeitiger Verringerung des Platzbedarfs der Gas-Box. Die hochreinen Entegris Produkte zur Gasfiltration werden von allen wichtigen Halbleiter-Originalherstellern und Geräteherstellern in Ätz-, CVD-, PVD- und Ionenimplantations-Werkzeugen verwendet sowie für andere Hochleistungsanwendungen wie in der Fotovoltaik, in Flachbildschirmen, in der Datenspeicherung und für HB-LEDs (LEDs mit besonderer Helligkeit), in Biowissenschaften und Lithium-Ionen-Batterien. Entegris integriert seine Gasfilter in unsere Gasreiniger zur Bereitstellung von Prozess- und Reinigungsgasen frei von sowohl molekularer als auch Partikelkontamination.

Flüssigkeitsfiltration

Die Kontaminationskontrolle von Prozessflüssigkeiten entwickelt sich immer weiter und ermöglicht damit weitere technologische Fortschritte und Ertragsverbesserung bei der Herstellung von Halbleitern, Flachbildschirmen, Datenspeichersystemen, Fotovoltaikzellen, Lithium-Ionen-Akkus und in den Biowissenschaften. CMP-Schlämme, Säuren, Basen, Fotochemie-Anwendungen und deionisiertes Wasser erfordern alle eine hochentwickelte Filtration, um fehlerverursachende Partikel und Ansammlungen zu entfernen, bevor sie den Wafer oder die Substratoberfläche erreichen. Entegris bietet ein umfassendes Sortiment von Filtern für die unterschiedlichen Anforderungen unserer Kunden an.